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详细介绍
日本ULVAC爱发科半导体干法刻蚀设备
日本ULVAC爱发科半导体干法刻蚀设备
适合量产的NE-5700/NE-7800干法刻蚀设备是一款可扩展的刻蚀设备,支持从一个腔室到多个腔室,强调性价比。
除1个腔体外,还可配备磁场ICP(ISM)、NLD等离子体源、灰化腔体、CCP腔体,兼容多种刻蚀工艺。
配备星形电极和各种温度控制功能,可实现过程的再现性和稳定性。
易于维护的结构,停机时间最短,全面的备份系统,包括再生清洁、零件供应、维护和培训服务。
半导体技术研究院提供完善的工艺支持系统。
化合物(LED、LD、高频器件)和功率器件(IGBT 布线加工、SiC 加工)。
用于金属布线、层间绝缘膜(树脂类)、栅电极加工工序。
用于蚀刻铁电材料和贵金属。
用于加工磁性材料。
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