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日本ULVAC爱发科半导体间歇式真空热处理炉
简要描述:

日本ULVAC爱发科3-L05 4-L06 6-L09 6-L12半导体间歇式真空热处理炉
日本ULVAC爱发科半导体间歇式真空热处理炉

  • 产品型号:3-L05 4-L06 6-L09 6-L12
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-11-25
  • 访  问  量:65

详细介绍

日本ULVAC爱发科半导体间歇式真空热处理炉

日本ULVAC爱发科半导体间歇式真空热处理炉


间歇式真空热处理炉COMBAT系列

可广泛用于各种金属零件的淬火、回火、退火、钎焊、烧结等真空热处理。
采用高压、大流量惰性气体冷却机构,可实现金属零件的高速淬火。
水冷套结构可隔离炉内热量,减少热量对工作环境的影响。

*本产品目前由海外集团公司生产。


特征

  • 最高温度:1300℃

  • 常温:500℃~1250℃

  • 均匀温度:1150℃±5℃

  • 能够对金属零件进行高速淬火

  • 水冷夹套结构,保持工作环境清洁

  • 标准使用钼加热器。还提供碳加热器规格

  • 通过在炉内使用所有金属,减少了碳粉对质量的影响。

规格

炉型3-L054-L066-L096-L126-L148-L1210-L1512-L18评论
表现浸泡尺寸宽度 [毫米]30040060060060080010001200
高度 [毫米]30040060060060080010001200
深度 [毫米]45060090012001400120015001800
标准加工重量[kg]1002005005001000120015002500包括托盘重量
温度最高温度[℃]1300
常用温度[℃]500~1250
均匀温度[℃]1150±5空炉中5点/9点测量
真空极限压力 [Pa]3×10 -3 Pa以下空炉脱气后,室温
泄漏量[Pa·m 3 /秒]8.5×10 -4以下
冷却冷却时间 [分钟]30/25以内35/25以内45/40以内50以内1150℃至150℃
冷却气体压力 [MPa 绝对]0.09/0.290.09取决于所需规格
使用规格安装尺寸宽度 [米]2.83.45.05.05.05.25.55.5
深度 [米]3.04.06.06.06.06.07.07.5
高度[米]2.53.23.23.23.24.54.55.5
电容量[kVA]85145220220第232章240第470章600
冷却水量[m 3 /hr]1015202020304045
惰性气体量[m 3 /次]1.5/4.43/97/217/218/249/2713/3918
压缩空气气量[NL/min]2606006006006009609601500


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