在真空技术的演进,涡轮分子泵以其无油洁净、启动快速、排气范围广等优势,成为超高真空系统的核心动力源。然而,传统分子泵对机械冲击的脆弱性、对安装角度的苛刻要求,以及在高气压冲击下的易损性,长期限制了其在移动式设备、可动部件以及频繁暴露大气的工艺环节中的应用。当真空系统需要“走出实验室,走向生产线,甚至装上移动平台"时,一种能够耐受振动、抵抗冲击、且不惧姿态变化的分子泵便成为迫切需求。
日本大阪真空机器制作所推出的TG220F小型耐大气冲击涡轮分子泵,正是为破解这一移动真空困局而生的技术杰作。作为TG-F系列的核心成员,TG220F凭借其独特的脂润滑陶瓷轴承技术与复合分子泵结构,重新定义了小型分子泵的鲁棒性与环境适应性,成为半导体制造、表面处理、移动式排气装置以及各类严苛工业应用中的可靠心脏。
TG220F的设计起点源于一个朴素而深刻的洞察:对于需要移动或承受振动的真空系统,泵的可靠性首先取决于其机械结构的抗冲击能力。传统采用油润滑悬挂转子结构的分子泵,虽性能优异,但对安装姿态敏感,且受外力冲击时易导致转子与定子接触损坏。
TG220F的设计哲学可概括为 “脂润陶瓷,刚柔并济" 。设备采用脂润滑陶瓷球轴承替代传统的油润滑轴承,使转子系统获得了的机械强度与姿态自由度。这一设计使TG220F不仅能够360度任意角度安装,更具备经得起连续400次大气冲击验证的强悍体质,将涡轮分子泵的应用边界从固定的洁净实验室拓展至动态的工业现场。
TG220F的技术内核在于将两项关键创新——高可靠性轴承系统与宽压力范围排气结构——无缝集成,构建了一套兼具鲁棒性与高性能的真空解决方案。
脂润滑陶瓷球轴承:这是TG220F耐冲击特性的基石。采用高强度陶瓷材料作为滚动体,配合专用润滑脂,替代了传统分子泵的油润滑系统。陶瓷材料具有低密度、高硬度、耐磨损、自润滑性优异等特点,使轴承系统能够承受更高的加速度和冲击载荷。这一设计带来了三大革命性优势:其一,方位安装——泵可在任意角度稳定运行,不再受重力对润滑油分布的限制 ;其二,耐振动与冲击——能够承受设备移动或可动部件运行带来的持续振动与突发冲击,甚至可将分子泵直接搭载于移动式真空设备上 ;其三,快速启停——配合破控功能,实现迅速启动(1-1.2分钟)与快速停止(2.5-3.5分钟),大幅缩短工艺节拍 。
复合分子泵结构:TG220F采用“涡轮叶片+螺旋沟槽"的复合结构设计 。上部为多级涡轮叶片,对气体分子施加定向动量;下部(叶片下方)加工有螺旋沟槽,形成牵引分子泵段。这一复合设计的精髓在于拓宽了分子泵的有效工作压力范围:传统纯叶片式分子泵在较高压力下排气能力急剧下降,而TG220F的螺旋沟槽段在中低真空区域仍能维持高效排气,使其允许辅助压力高达260 Pa,且对N₂的大气体流量可达400 sccm 。这意味着TG220F对前级真空的要求更为宽容,可匹配更小型的前级泵,或在更高背压下连续运转。
TG220F不仅在原理上独树一帜,其精准的硬件参数与设计细节更直接定义了其在严苛工况下的适用性。
| 特性维度 | 大阪真空 TG220F 关键技术参数与特性 |
|---|---|
| 核心原理 | 脂润滑陶瓷球轴承 + 涡轮-螺旋沟槽复合分子泵结构 |
| 排气速度 | N₂ 220 L/s(带保护网210 L/s);H₂ 100 L/s |
| 极限压力 | <1×10⁻⁶ Pa(<7.5×10⁻⁹ Torr),达超高真空级别 |
| 大压缩比 | N₂ 1×10⁸;H₂ 4×10² |
| 大气体流量 | N₂ 400 sccm(辅助泵容量160 L/min时) |
| 启动/停止时间 | 启动 1-1.2分钟;停止 2.5-3.5分钟 |
| 允许辅助压力 | 260 Pa(2 Torr),对前级泵要求宽容 |
| 推荐辅助泵 | ≥80 L/min |
| 安装角度 | 360度任意方向,突破传统分子泵姿态限制 |
| 耐大气冲击 | 经400次大气冲击验证,可在压力急剧上升时保持结构完整 |
| 适配法兰 | VG100 / ISO-R100 / CF100 |
| 重量 | VG/ISO-R型 5.5 kg;CF型 8 kg |
| 控制器 | TC223型 |
| 安全认证 | NRTL / SEMI-S2 / CE |
| 通信接口 | RS232C 串行通信标准配置 |
TG220F凭借其的耐冲击特性与方位安装能力,成为众多移动式或振动敏感型真空系统的泵型。
移动式排气装置:TG220F最典型的应用场景便是可移动真空设备。其耐振动、耐冲击的设计使其能够安装于移动小车上,在不同工位之间流转作业,而无需停机拆卸,极大提升了设备利用率和工艺灵活性 。
电子枪与离子源排气:在电子束焊机、电子束曝光机、离子注入设备中,TG220F提供清洁、稳定的超高真空环境,其快速启停特性可缩短设备待机时间,提高生产效率 。
表面处理与改性:在离子镀、溅射、PVD等表面处理工艺中,TG220F能够耐受工艺过程中偶尔的气体冲击和压力波动,确保真空系统的稳定性 。
加速器与核聚变研究:这些大型科学装置往往需要将真空泵安装于复杂的磁场环境和受限空间内,TG220F的方位安装能力和抗振动特性在此类场景中优势显著 。
热处理与研发:对于需要频繁更换样品或在不同真空系统间转移的研发场景,TG220F的快速启停与耐冲击特性可显著提升实验效率 。
TG220F的不仅在于其强悍的抗冲击能力,更在于其对真空系统集成度与全生命周期成本的深刻优化。轻量化设计使其整机重量仅5.5公斤(ISO-R型),极大降低了对支撑结构的强度要求 。控制器与泵体一体化或分离式的灵活选择,使其可适应不同空间布局的需求 。采用脂润滑陶瓷轴承后,泵的维护周期大幅延长,甚至有资料提及适当维修下泵的寿命可达10万小时以上 ,显著降低了用户的总拥有成本。此外,RS232C串行通信接口的标配,使其可轻松接入自动化控制系统,实现远程监控与数据记录 。
从400次的严苛大气冲击测试到360度的任意角度安装,从220 L/s的强劲抽速到5.5公斤的轻巧,大阪真空TG220F小型耐大气冲击涡轮分子泵,以其对机械结构与真空物理的深刻理解,在移动式真空与严苛工况之间架起了一座可靠的桥梁。它不仅是分子泵家族中的一个型号,更是真空技术从静态走向动态、从实验室走向工业现场的标志性一步,为现代精密制造与科学研究提供了一颗既强劲又坚韧的真空心脏。