在现代半导体制造的微观世界里,一颗比尘埃还微小的杂质、一个纳米级的工艺偏差,都可能导致价值不菲的整片晶圆报废。在众多严苛的工艺环节中,湿法清洗是贯穿始终的基础步骤,其药液浓度的精确性直接决定了芯片的可靠性与良率。随着半导体器件特征尺寸不断微缩,对清洗化学品——尤其是(HF)、盐酸(HCl)等——的浓度控制要求,已从百分比级别进入了百万分比(ppm)级别的超精密范畴。
在此背景下,HORIBA(堀场)集团推出的HF-960M低浓度型HF/HCl/NH₃浓度监测仪,凭借其针对低浓度测量优化的耐腐蚀传感器与高度集成化的设计,成为了确保制程清洗工艺稳定性的关键工具。
传统的光学或滴定法浓度测量在应对半导体级超纯、低浓度化学液时,往往面临响应慢、维护繁琐或精度不足的瓶颈。HF-960M的设计理念直击痛点:它专为满足单晶圆清洗(Single Wafer Cleaning) 和RCA清洗等工艺中对HF、HCl、氨水(NH₃)的低浓度、高精度、实时在线监测需求而生。
其核心价值在于,能够在生产线旁持续、稳定地监测浓度低至ppm级别的化学液,确保每一片晶圆都在一致的理想化学环境中被处理,从而提升工艺的重复性与产品良率。
HF-960M实现高精度测量的基石,在于其基于电导率测量的浓度转换算法及其关键部件的耐腐蚀性。
1. 测量原理:温度补偿型电导率法
设备并非直接测量化学物质的分子数量,而是通过测量溶液的电导率(范围0-50.0 mS/cm),再结合高精度的温度传感(Pt1000温度补偿元件),根据预设的、对应特定化学品的“电导率-浓度-温度"关系模型,实时计算出目标物质的浓度值。这种方法避免了复杂的光路系统,特别适合在线、实时的工业过程控制,具有响应速度快、稳定性高的优点。
2. 心脏部件:FS-10F系列流通式传感器
化学液的强腐蚀性是所有监测设备面临的严峻考验。HF-960M配备的FS-10F系列传感器,其接液部分采用了玻璃碳(Glassy Carbon)、PFA(全氟烷氧基树脂)以及Kalrez®等全氟醚橡胶等耐腐蚀材料。这些材料能长时间耐受HF、HCl等强酸的侵蚀,从根本上保证了传感器核心电极的长期稳定性和测量准确性,显著降低了因传感器腐蚀导致的维护频率和成本。
HF-960M不仅仅是一个传感器,更是一个完整的、便于集成到自动化生产线中的监测系统。
1. 多功能与高精度
五合一测量:一台设备可同时提供HF浓度、HCl浓度、NH₃浓度、电导率和温度五种测量模式,用户无需为不同化学品配置多台仪表,极大简化了系统架构。
宽广且精细的量程:其测量范围覆盖了半导体清洗的关键区间(HF: 0-5000 ppm, HCl: 0-5000 ppm, NH₃: 0-10000 ppm),并能实现高达±25 ppm的测量再现性,满足制程的控制要求。
2. 紧凑设计与强大输出
标准DIN尺寸:采用96mm x 96mm的面板安装式设计,深度仅约115mm,可以轻松嵌入设备控制柜中,节省宝贵的洁净室空间。
灵活的工业接口:提供3通道模拟输出(通常为4-20mA),可分别对应浓度、电导率等不同参数;同时具备多达7个可编程的报警触点输出,可用于浓度超限、设备故障等报警,无缝对接工厂的PLC(可编程逻辑控制器)或SCADA(监控与数据采集)系统。
3. 可靠性与环保
HF-960M主要服务于对化学环境控制要求高的制造业,其典型应用场景如下表所示:
在半导体技术向着3纳米、2纳米及更小节点迈进的道路上,工艺窗口日益狭窄,对每一个变量的控制都必须做到。HORIBA HF-960M低浓度浓度监测仪,正是湿法清洗这一基础环节中,实现“测得准、控得稳" 的基石。
它化身为生产线的“化学感官",将不可见的离子浓度转化为稳定可靠的数字信号,让工程师能够以的精度洞察并调控工艺状态。通过其耐腐蚀的硬件设计、精密的算法补偿和强大的工业互联能力,HF-960M不仅守护着每一片晶圆的洁净,更守护着现代电子信息产业创新与发展的基石。在追求更高良率、更优性能的产业竞赛中,此类高可靠性的过程监控工具,已成为制造商的战略性资产。